面向热敏感基底的低温高性能镀膜工艺
Abstract
针对热敏感基底（如环氧胶粘接结构件）在镀膜过程中的温升控制难题，本文提出一种低温电子束蒸发镀膜工艺。通过分段沉积-冷却循环的动态热管理策略，系统研究了该工艺在金属反射膜（以银膜为研究对象）的应力、附着力及光学等核心性能方面的表现，并结合环氧胶热失效阈值优化沉积流程。实验结果表明，在基片温度严格受控的条件下，该工艺使得反射膜残余应力显著降低，界面附着力满足国家标准中最严苛的03严酷等级（GB/T 26332.4-2015/ISO 9211-4：2012），可见光波段平均反射率与传统连续镀膜工艺相当（>99%@450−900 nm），且基片温升始终低于环氧胶临界阈值。通过离子辅助沉积与介质层封装协同作用，银膜抗氧化性与环境耐受性显著提升，满足航天光学器件在极端多物理场耦合环境下的长寿命服役要求。进一步理论分析表明，该工艺的热弛豫机制与结构调控原理具备跨场景适用性，为低温敏感基材的高性能镀膜提供了兼顾航天可靠性及工业普适性的创新解决方案。
Fields of Study & Subjects
Optical Coatings and Gratings
Metal and Thin Film Mechanics
Advanced Materials and Semiconductor Technologies
Publication details
- Journal / source
- Chinese Optics
- Volume
- 19
- Issue
- 3
- Pages
- 515–525
- Publication date
- 1 January 2026
- Language
- EN