振动辅助磁流变抛光轨迹熵增与中频抑制机制（特邀）
Abstract
磁流变抛光广泛用于修正低频误差（空间周期大于1 mm），而中频误差（空间周期为1 μm~1 mm）则很少受到关注。提出超声振动辅助磁流变抛光（U-MRF），在不改变磁流变液成分和现有工艺的情况下，实现低频误差与中频误差的协同消除。首先，建立信息熵均匀化模型与表面残余高度模型；其次，通过单因素实验分析工艺参数对峰值去除率和表面粗糙度的影响；最后，使用多目标粒子群（MOPSO）优化算法对实验结果进行耦合优化。实验表明：超声振动抑制中频误差的关键在于使微观磨粒切削轨迹混乱，并且通过超声参数进一步调控空间周期的分布。当实验条件完全相同时，U-MRF实现低频误差和中频误差的同时抑制，低频误差均方根误差（RMS）从6.38 nm降低到2.91 nm，中频误差RMS降低到0.325 nm，粗糙度（Ra）降低到0.259 nm。
Fields of Study & Subjects
Advanced Surface Polishing Techniques
Surface Roughness and Optical Measurements
Advanced machining processes and optimization
Publication details
- Journal / source
- Acta Optica Sinica
- Volume
- 46
- Issue
- 1
- Pages
- 0122005–0122005
- Publication date
- 1 January 2026
- Language
- EN