用于制作大尺寸光栅的变基准差分条纹锁定宽光束扫描曝光方法（特邀）
Abstract
宽光束扫描曝光是实现大尺寸光栅制备的有效方法，但光刻胶厚度不均会限制常规条纹锁定技术的相位精度。为此，提出一种变基准差分条纹锁定技术，能够有效减小由胶厚不均引起的相位误差，进而提升光栅栅线的位置均匀性。通过优化光阑形状以调控曝光量分布，进一步改善光栅槽形的均匀性。实验结果表明：采用所提方法制作的100 mm×200 mm光栅，其栅线位置误差对应的衍射波面误差峰谷值为0.07λ，均方根值为0.04λ；在工作波长和工作入射角下，横电（TE）与横磁（TM）偏振态的+1级衍射效率平均值为29.0%，标准差为0.7%。
Fields of Study & Subjects
Advancements in Photolithography Techniques
Optical Coatings and Gratings
Optical measurement and interference techniques
Publication details
- Journal / source
- Acta Optica Sinica
- Volume
- 46
- Issue
- 1
- Pages
- 0122008–0122008
- Publication date
- 1 January 2026
- Language
- EN