极紫外光源性能最优方程与设计
Abstract
本文基于激光等离子体物理原理,针对极紫外(EUV)光刻机光源建立了系统的性能预测与优化模型。通过分析CO2激光与锡靶的相互作用机制,揭示了锡离子多重激发态对13.5 nm辐射的主导作用(贡献率66%),导出了转换效率(CE)的解析表达式。理论预测与文献报道的实验数据高度吻合,1µm固体激光驱动方案CE可达3.42%,脉冲延迟最优值为0.618倍主脉冲宽度。
Fields of Study & Subjects
Laser-Plasma Interactions and Diagnostics
Advancements in Photolithography Techniques
Laser Design and Applications
Publication details
- Journal / source
- Zenodo (CERN European Organization for Nuclear Research)
- Publication date
- 5 March 2026
- Language
- ZH
- Document type
- Preprint