Modulação do sorriso gengival com onabotulinumtoxina no ponto de Yonsei após reabilitação estética cerâmica: relato de caso

O objetivo deste trabalho foi relatar a modulação da exposição gengival no sorriso social por meio da aplicação bilateral de onabotulinumtoxinA em baixa dose no ponto de Yonsei após reabilitação estética cerâmica. Para tanto, uma paciente de 61 anos apresentou exposição gengival quantificada em fotografia padronizada calibrada no software ImageJ (NIH, EUA). A conversão px→mm utilizou uma referência interna (altura cérvico-incisal do dente 21 = 10,96 mm), obtida em modelo digital por escaneamento intraoral (TRIOS 3; 3Shape A/S). Três examinadores realizaram três mensurações independentes por dente (11, 21, 13 e 23), utilizando-se a média das repetições por examinador e, em seguida, a média entre os examinadores. A onabotulinumtoxinA foi reconstituída para 10 U/0,1 mL e aplicada bilateralmente no ponto de Yonsei (2 U por lado; 4 U no total). No baseline, a exposição gengival variou de 2,854 a 3,949 mm, enquanto aos 14 dias não houve exposição gengival mensurável (0 mm) nos sítios avaliados, sem intercorrências relatadas. Houve registro no controle de 90 dias, e a paciente referiu satisfação. Concluiu-se que a onabotulinumtoxinA em baixa dose no ponto de Yonsei associou-se à redução mensurada da exposição gengival no curto prazo; contudo, por se tratar de um relato de caso, não é possível inferir a duração do efeito ou estabelecer comparações entre técnicas.