周期性光学薄膜应力建模

Journal of Applied Optics 2026 Open access

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Authors: Ying DONG, 西安应用光学研究所，陕西 西安 710065, Yingqi LIU, Zhong TAO, Pingping YUN, Rong HU, Juanni HAN
DOI: 10.5768/jao202647.0101009
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Abstract

光学薄膜应力会严重影响光学器件的表面面形，研究多层薄膜残余应力是高面形精度多层薄膜器件研制的核心。基于膜系结构和工艺过程重构周期性多层膜结构，建立了周期性多层膜残余应力模型，此模型与中心波长λ0、单周期应力σC、周期数m及周期间应力σC|C有关。设计了中心波长λ0=900 nm的周期性多层膜，使用应力模型估测残余应力，沉积该样片并通过基底形变法测试残余应力。测试结果表明，使用应力模型估测的残余应力与实测残余应力的误差约为30%，证明建立的周期性多层膜应力模型具有较高的精确度，适用于周期性多层膜应力估测。

Fields of Study & Subjects

Optical Coatings and Gratings Metal and Thin Film Mechanics Advanced MEMS and NEMS Technologies

Publication details

Journal / source
Journal of Applied Optics
Volume
47
Issue
1
Pages
73–79
Publication date
1 January 2026
Language
EN