Study on the emission spectroscopy of plasma and characterization of nanofilms during pulsed laser deposition of ZnO
Abstract
在脉冲激光沉积中,揭示等离子体参数与薄膜性能之间的内在关联性对于深入理解PLD物理机制具有重要意义,也是PLD技术研究的重要目标之一．本文系统的研究了不同激光能量（200-500 mJ）对ZnO靶烧蚀及纳米结构沉积的影响，利用光学发射光谱（OES）对激光诱导ZnO等离子体进行了诊断，分析了其电子密度(Te)和电子温度(Te)的时空演化规律．结合各种表征手段对所制备的ZnO薄膜的表面形貌、分子结构、结晶质量及紫外光电性能进行了系统评估．结果表明在300 mJ的激光能量下，等离子体电子密度的空间分布最为稳定，并且该条件下制备的薄膜表现出最优的紫外光电性能．这一结果显示，电子密度的空间分布稳定性与薄膜性能存在一定关联．
Fields of Study & Subjects
ZnO doping and properties
Laser-induced spectroscopy and plasma
Plasma Diagnostics and Applications
Publication details
- Journal / source
- Acta Physica Sinica
- Volume
- 75
- Issue
- 7
- Publication date
- 1 January 2026